创新驱动聚力超纯水工艺突破，高频科技为半导体行业进步带来活力

在工业生产中,超纯水被广泛应用于电子、半导体、光学、食品、制药等领域。尤其是在半导体生产中,超纯水扮演重要角色。芯片制造的关键环节如沉积、光刻胶涂覆、光刻、刻蚀、离子注入和封装等步骤,都需要用超纯水进行清洗。假若因为超纯水纯度不达标,让污染物残留在晶圆表面,会造成元件短路或缺陷,轻则影响晶圆良率,重则导致成批晶圆报废,给企业造成重大损失。

近年来,超纯水作为影响电子元器件产品质量与成品率的一类关键材料,其市场需求持续增加,许多超纯水企业迎来高速发展契机。不过,随着半导体厂商角逐高端工艺,对超纯水标准要求不断提升,处理水平较低的低端设备企业逐渐难以跟上半导体企业发展的步伐。而具有深厚行业经验和先进超纯水技术能力的企业则迎来广阔发展机会,其中专注于芯片、显示等半导体高端制造业二十余载的高频科技,立足先进超纯水工艺技术能力,不断谋求创新突破,通过高品质超纯水生产助力半导体行业发展。

超纯水技术发展,驱动半导体工业进步

近年来,超纯水技术不断取得新发展。反渗透(RO)技术、电化学脱盐技术、离子交换、电去离子(EDI)技术、脱氧技术、前处理优化、废水回收技术等陆续发明和应用,满足半导体制程工艺发展对超纯水的新要求。

譬如,反渗透膜技术也是超纯水制备中的关键技术之一:反渗透膜组件的脱盐率很高,单级反渗透脱盐率一般可稳定在97%以上,双级反渗透脱盐率在99%以上。此外,反渗透膜还可以有效去除细菌等微生物、有机物,以及金属元素等无机物。目前反渗透膜生产超纯水的工艺已经很成熟,能够有效地降低水的电导率和其中总溶解性固体的含量,对大部分盐类成分的截留率超过95%,并且水通量大。再比如电去离子(Electrodeionization 简称EDI)是近些年新兴的一项超纯水(高纯水)制备技术,它将ED(电渗析) 和IE(离子交换)两种技术有机融为一体,有效地克服了ED技术因发生极化无法完成深度脱盐的缺陷。

不过,超纯水的要求极高,作为制造超纯水的原水通常含有电解质、有机物、悬浮物、微生物以及溶解性气体等杂质,任何一种单一的处理手段都难以将所有的污染物全部去除,为了有效去除各种杂质,需要各种处理手段的综合运用。此外,随着半导体不断向精细化制程迈进,对超纯水的电导性、离子含量、TOC、DO等要求越来越严格。对超纯水制备企业而言,不仅需要拥有满足当下电子用水需求的超纯水工艺,还需要具有技术研发创新能力,从而满足半导体企业不断发展的要求,在未来市场抢占一席之地。

掌握先进超纯水工艺,高频科技助力半导体产业升级

高频科技作为立足于超纯工艺能力的工业级技术服务商,拥有资深技术团队,通过技术工艺研发创新,并融汇国际先进经验,在探索超纯水绝对纯度的道路上不断获得突破。譬如,面对硼、硅等特殊物质去除这一让行业头疼的难题,高频科技通过工艺创新以及终端材料的优化,实现了PPT级别的深度去除,获得客户认可和行业广泛关注。

通过一般工艺很难生产出电子级超纯水。高频科技立足物理、化学、光化学、机械、空气动力学、流体力学等科学,使用多介质过滤 、活性炭吸附、离子交换、反渗透膜、紫外线杀菌、紫外线TOC去除、电渗析、超滤、纳滤、真空脱气塔、膜脱气等涉及18+项专业专利处理工艺环节,8次增压提升,生产的超纯水纯度可达99.9999999999%,可满足高端半导体工业对超纯水水质的要求。

此外,为提升工业用水效能,高频科技还积极寻求水处理的技术突破,帮助半导体企业节约成本,提升循环经济价值。高频科技回用水系统及废水收集处理系统帮助半导体企业减少废水量、减少用水量、减少能耗、减少化学品使用、减少设备使用损耗,通过保障环保指标、保障水制程回收率、保障微量元素回收利用来实现对绿色厂务水平的综合保障。依托自有优秀半导体水系统专家,高频科技研发交付30种可选回用水工艺技术,已实现水制程回收率达75%-90%,致力于让每一滴超纯水都可以循环再利用,助力企业自身提质增效,保障半导体企业可持续发展。

超纯水“竞技”驱动技术创新突破,为半导体行业进步带来活力,而后者的发展又为超纯水企业带去新的市场机遇和挑战。相信未来以高频科技为代表的本土企业,在加大技术研发力度的加持下,持续精进,将为半导体行业提供更高质量的超纯水解决方案,助力我国半导体产业自主创新,为行业产业升级贡献力量。

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